【摘要】 椭圆偏振测量仪是一种非常强大的工具，它可以高灵敏度地表征薄膜的光学常数和厚度。

椭圆偏振测量仪是一种非常强大的工具，它可以高灵敏度地表征薄膜的光学常数和厚度。椭偏仪主要用来测量椭圆偏振参数Δ和ψ，然后利用一些已知的分析模型（如柯西模型），从这两个参数推导出样品的光学常数等参数。由于成像椭圆偏振法可以表征样品的光学性质和厚度的均匀分布，因此在生物技术和半导体计量学中得到了广泛应用。

使用快速成像椭偏仪进行测试，可以为理解超临界流体等特殊处理环境下的薄膜的过程机理提供有用的信息。

Jin等人利用y轴切割z轴传播(Y-Z)LiNbO3（LN）电光(EO)晶体的快速响应功能开发了一种快速成像椭偏仪(IE)，并将其扩展到原位测量。当光在无电场的情况下通过理想LN晶体的z轴传输时，静态双折射为零。非理想平行光束、晶体生长和抛光过程中产生的残余应力等原因导致了LN晶体视场内静态双折射分布的存在。在非原位测量中，LN晶体的静态双折射可以很容易地通过使用标准样品来校准。

原位成像椭偏仪具有偏振器、补偿器、窗口、样品、窗口分析器(PCW1SW2A)等椭圆偏振测量系统的基本配置。W1和W2是入射侧和出射侧的窗口，窗口通常在某种程度上表现出双折射的特性，因此，LN晶体的初始双折射分布成为原位测量的一大不利因素。测试结果表明，该椭偏仪噪声还是很大，推测可能是相干光源的问题，Jin等人将使用测量原理部分中理论上介绍的窗口校准概念开发图像处理软件，并将此原位IE应用于测量和研究金属薄膜在基板上沉积时的光学特性和在超临界流体中的厚度分布等领域。

 

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