【摘要】 利用X射线激发光电子显微镜(XPEEM)进行表面测绘有两种方法。

表面化学过程的在线监测对于制备半导体器件、传感器、催化剂等新型表面材料具有重要意义。光电子显微镜(PEEM)是一种使用从表面发射的光电子来监测表面反应过程和薄膜生长的介观图像技术。PEEM通常使用紫外光作为激发价电子的光源。因此，表面图像的对比度取决于功函数。因此，我们可以通过功函数来跟踪曲面的变化。然而，有时很难解释变化的起源，也很难讨论它的表面化学。另一方面，X射线激发核心电子，其结合能与元素和化学状态有关。因此，对抛射光电子能量的分析使我们能够实现表面化学测绘。利用X射线激发光电子显微镜(XPEEM)进行表面测绘有两种方法。第一种是使用具有可变X射线光子能量的吸收边；另一种是分析具有固定X射线光子能量的发射光电子的动能。扫描X射线能量穿过吸收边能量，你会发现由于光电效应发射的二次电子的量会突然增加。因此，当样品被能量大于给定元素吸收边的X射线照射时，包含该元素的区域变得更亮，从而可以进行化学成像。同步辐射提供了连续的强X射线光谱，足以在任意光子能量下进行XPEEM成像。同步辐射是线偏振的，有时使用插入装置是圆偏振的。它具有脉冲式的时间结构。圆偏振有利于磁畴观测及其对外场的响应。第二种方法使用由具有固定光子能量的X射线激发的光电子；光电子具有与元素和化学状态有关的动能，如在X射线光电子能谱(XPS)中。我们将XPS和PEEM的这种组合称为能量过滤X射线光电子显微镜：EXPEEM。

 

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