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      下单:聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM） 仪器详情

      预约须知

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      样品要求：

      1、无挥发性，固体、块体长宽最好小于20mm，高度小于5mm。

      2、样品要求导电性良好，如果导电性比较差的话需要进行喷金或喷碳处理。

      3、透射样品制备只保证切出的样品厚度可以拍透射。



      负责人
      联系方式 查看

      王老师

      咨询热线

      400-831-0631

      聚焦离子束扫描电镜（FIB-SEM）
      型号：
      ZEISS Crossbeam 540；Helios G4 PFIB HXe；Helios 600i
      测试项目：

      用途及功能：

      1.定点剖面形貌和成分表征 

      2. TEM样品制备 

      3. 微纳结构加工 

      4.  芯片线路修改

      5.切片式三维重构

      6.材料转移 

      7.三维原子探针样品制备

      适用领域：

      结构分析、材料表征、芯片修补、生物检测、三维重构、材料转移等，该系统可适用于横截面和断层扫描，3D分析，TEM样品制备及纳米图形加工；


      样品要求：

      1、无磁性、无挥发性，固体、块体尺寸最好小于80mm（快速进样最大尺寸）

      2、样品要求导电性良好，如果导电性比较差的话需要进行喷金或喷碳处理


      常见问题及回答：
      结果展示：

      1、图案加工

      图片1.png

      2、TEM样品制备

      图片2.png


      3、定点剖面分析

      图片3.png

      4、三维重构

      图片4.png


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